mask aligner半自動光刻機 參考價：面議
mask aligner半自動光刻機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力,；并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心,、研究...
無掩膜光刻機, 激光直寫系統(tǒng) 參考價：800000
無掩膜光刻機, 激光直寫系統(tǒng)是一個高價值的直寫激光光刻機系統(tǒng),，面向大學和研究機構尋求擴大他們的能力。它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面...
負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用 參考價：10000
負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用SNR負性光刻膠,，針對微機械加工微電子應用,，高對比度，環(huán)氧樹脂類負性光刻膠,。具有垂直側壁的高縱橫比成像近紫外（350-400n...
納米壓印-光刻機 參考價：650000
納米壓印-光刻機緊湊型滾筒納米壓印機我們的桌面R2P納米打印機是原型設計,，實驗和產品開發(fā)的理想工具。臺式R2P納米壓印機單元適用于小規(guī)模納米壓印光刻工作。該設備...
激光直寫無掩膜光刻機 參考價：面議
激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ,，無需掩模,，大幅節(jié)約了掩模加工費用，靈活性高,，可直接通過電腦設計光刻圖形,，并可根據設計要求隨意調整，可升級開放性系統(tǒng)設計,，按...
全自動光刻機 參考價：面議
全自動光刻機公司開發(fā)并生產用于半導體,、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業(yè)領域的光罩對準曝光機和甩膠機,，是韓國*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè),，始終...
納米壓印系統(tǒng)-光刻機 參考價：面議
納米壓印系統(tǒng)-光刻機介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺,。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺,，用于安裝納米壓印室、紫外線固化
spin coater勻膠機 參考價：面議
spin coater勻膠機既在高速旋轉的基片上,，滴注各類膠液,，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,，也和旋轉...
硅穿孔工藝設備-光刻機 參考價：面議
硅穿孔工藝設備-光刻機晶圓和晶圓之間制作垂直導通,，實現(xiàn)芯片之間互連的新技術。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大,，芯片之間的互連線短,，外形尺寸小，并且大大改善芯片速...
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機 參考價：面議
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復制重復性測試,。歸功于桌面小型化的設計,。它也可以大幅降低材...
無掩膜曝光機-光刻機 參考價：面議
無掩膜曝光機-光刻機美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術，已成為無掩...
勻膠機,、旋涂儀（德國產、高性能） 參考價：面議
勻膠機,、旋涂儀（德國產,、高性能）SPIN150i單片勻膠機/旋涂儀具有廣泛應用，包括甩干,，沖洗,，清潔，涂膠。臺式設計,，無縫全塑料材質,， 有天然聚丙烯（NPP）和...
顯影機-勻膠機 參考價：面議
顯影機-勻膠機顯影機 /濕法刻蝕機德國品質（配有防污染內襯，標配兩個大小吸盤,，性能優(yōu)于美國同類品牌）高精度,，高可靠性，耐腐蝕,，來源德國,，多程序控制。
光刻機/紫外曝光機 參考價：面議
光刻機/紫外曝光機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力,；并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心,、研究所和高校所采用,；以...
勻膠機,，旋涂儀 參考價：面議
勻膠機，旋涂儀其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉速度及時間有關,。
勻膠機 參考價：面議
勻膠機其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉速度及時間有關。
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